ASML再次表态了！
如果你不知道ASML是谁，那么现在我们再谈到芯片产业，你一定会对光刻机这个芯片制造设备有所了解，而ASML就是光刻机市场领域的龙头。
在芯片产业的最初阶段，芯片IP处在核心地位，芯片生产只是芯片研发公司的配套，所以当时的芯片企业基本都有自己的晶圆厂，AMD联合创始人之一的杰里·桑德斯就说过：好汉都有晶圆厂。
但显然现在的情况发展了巨大的改变，因为连AMD都将芯片的生产转交给代工厂了，而随着进入后摩尔时代，芯片制造技术的研发越来越困难，因此已经有很多晶圆厂放弃了对先进工艺的研发，其中就包括AMD旗下的格芯。
而先进工艺芯片制造中的一个关键环节，就需要光刻机来完成，确切的说，是EUV型的光刻机。
目前我国的光刻机水平在90纳米，最快在2021年将会推出28纳米的光刻机产品，据悉如果通过多重曝光技术，也可以生产14纳米工艺的芯片。
而近日我国中科院就宣布，将会解决一批卡脖子的问题，其中就包括光刻机。
在此之后，ASML作为光刻机领域市场龙头，很快就进行了表态，其表示将会加快在中国市场的布局。
很显然，这是在向中国市场的客户释放积极的信号。根据ASML公司CFO所透露，在2019年，来自中国本土客户的订单为8亿欧元，而今年将会达到10亿欧元，订单金额提升了25%。
所以我们看到，中国市场对ASML来说具备一定的地位，而且受到大环境的影响，中国本土的芯片产能需求将会快速增加，这无疑对ASML是一次机会。
就在近日，ASML公司CFO在接受采访中再次表态，其表示如果是从荷兰向中国客户提供DUV光刻系统，那么将无需出口许可证。
不到一个月的时间里，ASML方面两次向中国市场抛出积极信号，想必这已经很能说明问题。
上面我们提到了DUV光刻系统，采用DUV技术的光刻机，直到7纳米工艺也可以采用。
而ASML的再次表态，显然是有点着急的味道，可以说这与中国要大力发展自主光刻机有着直接的关系。
上面我们也提到了，我们其实也有自己的光刻机，并不是所有光刻机都要依赖ASML供应，而且在不远的时间内，我们的光刻机也可以达到接近先进工艺的水平。
而反观ASML方面，虽然也掌握着最先进的EUV技术，但一切还要用市场来说话，根据ASML在2019年的营收数据来看，来自EUV型光刻机的营收，大约只占据其总营收的22%。
很显然，ASML差不多近八成的收入，还是要靠非EUV型光刻机的销售来支撑。
除此之外，ASML的EUV型光刻机，其实也有自己的难言之隐，例如EUV技术现在也要面临着如光源、光刻胶和掩膜版等方面的难题需要解决，仅以掩膜版为例，过去掩膜板的整体产率可以达到约95%，但EUV仅64.3%左右，而且比复杂光学掩膜还贵最多8倍。
所以近日三星李在镕访问ASML总部，业界解读是希望得到更多的EUV型光刻机的产能，就不难理解了，因为EUV技术虽然可以提供相应的性能水平，但是EUV型光刻机的量产规模难以提升。
不仅如此，要达到同样的性能水平，也并不是只有EUV技术一种，像纳米压印、X光光刻、电子束直写等先进光刻技术也都是研究方向，因此ASML在EUV型光刻机上，也面临着潜在的竞争。
因此对于ASML来说，无论是从现在的营收比例上，还是从增强自己的市场地位来考虑，增加自己的市场份额都是最好的办法，最直接的影响是，获得更多的营收，就可以支撑更大强度的研发投入。
例如在今年第一季度，ASML就投入5.5亿欧元的研发成本，可见为了研发出更强的光刻机系统，ASML每年的研发投入巨大，因此面临的营收压力就非常可观，事实上，ASML在2019年的净利润为25.92亿欧元，由此可见，ASML的研发投入与净利润的比例很高。
所以我们综合来看，为何ASML会这么着急，其实答案很明显，就是为了保护自己的市场地位和技术优势不会动摇，对此大家怎么看呢？
