10月14日，ASML首席财务官突然就光刻机问题公开表态，未来对中国出口光刻机，将不需要获得美国批准，这意味着ASML与中国市场的联系变得更加紧密，而ASML作为全球最顶级的光刻机厂商，它提供的光刻机也能为中国自主研发提供一个有力的参考。
不过遗憾的是，这次ASML可以对中国出口的光刻机并不包括高端EUV光刻机，仅仅只是DUV光刻机，而这两者最大的区别就在于制程工艺，根据资料显示，EUV光刻机可可以满足10nm工艺以下的晶圆制造需求，而次一点的DUV光刻机只能达到25nm的制造水平。
再根据前段时间倪光南院士的一段发言可以得出，中国目前已经拥有了28nm光刻机，依据现有技术水平也能制造出28nm乃至14nm的芯片。
所以这次ASML态度的突然转变，对于目前中国高端芯片的现状不能起到“雪中送炭”的作用。
不过对于国内自主研发光刻机而言，ASML所提供的DUV光刻机还是能起到一个很好的催化剂作用。
就在ASML宣布好消息后，美国却突然颁布新规。根据外媒10月15日报道，近期美国半导体协会和美国半导体研究公司联合推出“半导体十年计划”，该计划旨在维持美国在芯片领域的领先地位，据悉，该计划预计将拿出约2288亿元来扶持国内的半导体企业。
美国作为全球科技最发达的国家，却还突然作出如此大规模扶持科技行业的举动，这种结果是中科院也没料到的，毕竟在上个月时，鉴于目前国内“缺芯少机”的情况，中科院作为国内科学技术方面的最高学术机构，也不得不站出来宣布未来将集齐全院力量来攻克光刻机技术。
中科院这种大力扶持的举动完全是受于国内窘迫的情况不得不做的，而美国作为科技大国，拥有全球最顶尖的工业设计和创新能力，特别是在半导体这类领域，大部分技术和专利都被高通、英特尔、思科、苹果、谷歌等美国科技巨头所把持，想要突破这些企业的“专利护城河”，难度系数非常之高。
可尽管美国拥有如此好的优势，依然没有放弃往前走，还不惜拿出重金来培养国内半导体企业继续发展。
据业内人士认为，美国此次行动很可能是受到中国崛起的影响，华为、中兴、京东方等中国企业近几年在全球市场大出风头，已经隐隐有威胁到美企的气势。
而美国为了继续保持自己世界巨头的光辉形象，不仅出招扶持本国企业，还大力要求其他企业来美国建厂，比如美国就曾要求过台积电将最先进的晶圆代工厂建立在美国本土，而富士康也受到了类似的请求。
不过最终的结果都是以美国被拒而告终，其中的原因在很大可能性就是美国的霸道措施太多，令人防不胜防，朝令夕改也成为常态。
古语有言：有志者事竟成，个人如此，集体也是如此。芯片和光刻机毕竟是人造了，不是神造的，既然ASML能够造出来，那么中国也一样可以造出来。
高铁、北斗导航、无人机、超级计算机、射电望远镜等等产品都在见证中国科技的飞速发展，只要再给科研工作者一点时间，光刻机国产化也终将成为现实。
