四川在线记者 丁宁
11月5日，第四届国际先进光刻技术研讨会在成都双流区开幕。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共计500余名技术专家和学者参加了本届大会。
大会上，来自斯坦福大学、Mentor、ASML、ICRD、Nikon、Canon、微软等公司机构的特邀嘉宾分别就拟定的主题做告，深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。
据了解，IWAPS（国际先进光刻技术研讨会）为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。
IWAPS已连续举办三届，为何今会选择在成都举办第四届？
本届研讨会相关负责人表示，成都的电子信息产业基础雄厚，拥有电子制造企业500余户，聚集了英特尔、IBM、格罗方德等60余家世界500强和国际知名公司，从业人员60余万。此外，成都还拥有一批国家级电子类高校和科研机构。作为中西部地区集成电路产业发展领先城市，近两年密集出台相关政策，加快推动集成电路产业发展，产业发展势头强劲。
目前，成都已形成了从集成电路、新型显示、整机制造到软件服务的全产业链条，正聚焦“一芯、一屏”攻坚突破集群发展，积极创建“中国制造2025”国家级示范区。
“本次会议结合当前国内外光刻技术发展现状，以专业视角预测发展趋势，助谋集成电路产业发展，并将为双流区乃至成都市的集成电路产业发展提供更为广阔的发展思路，推动产业实现更快更优的提升。”该负责人说。
