ASML宣布好消息后,美国突然颁布新规!这结果中科院也没料到
10月14日,ASML首席财务官突然就光刻机问题公开表态,未来对中国出口光刻机,将不需要获得美国批准,这意味着ASML与中国市场的联系变得更加紧密,而ASML作为全球最顶级的光刻机厂商,它提供的光刻机也能为中国自主研发提供一个有力的参考。不过遗憾的是,这次ASML可以对中国出口的光刻机并不包括高端EUV光刻机,仅仅只是DUV光刻机,而这两者最大的区别就在于制程工艺,根据资料显示,EUV光刻机可可以满足10nm工艺以下的晶圆制造需求,而次一点的DUV光刻机只能达到25nm的制造水平。再根据前段时间倪光南院士的一段发言可以得出,中国目前已经拥有了28nm光刻机,依据现有技术水平也能制造出28nm乃