ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”，助英特尔开启工艺进化
IT之家 2 月 28 日消息，英特尔技术开发负责人 Ann Kelleher 在周二于圣何塞举行的 SPIE 光刻会议上提到他们已经在 ASML 新型高数值孔径 (High NA) EUV 光刻机上实现了“初次曝光”里程碑，而 ASML 也进行了证实，并表示接下来将继续测试和调整该系统，使其能够
IT之家 2 月 28 日消息，英特尔技术开发负责人 Ann Kelleher 在周二于圣何塞举行的 SPIE 光刻会议上提到他们已经在 ASML 新型高数值孔径 (High NA) EUV 光刻机上实现了“初次曝光”里程碑，而 ASML 也进行了证实，并表示接下来将继续测试和调整该系统，使其能够
IT之家 12 月 22 日消息，ASML 公司近日通过官方 X（推特）账号发布推文，宣布已经向英特尔交付首台高数值孔径光刻设备。IT之家此前报道，ASML 研制的高数值孔径光刻设备主要用于生产 2nm 工艺半导体芯片，数值孔径（NA）光学性能从 0.33 提高到 0.55。ASML 明年规划产能
