佳能：目标最快今年开始交付低成本纳米压印光刻设备
IT之家 1 月 28 日消息，据英国金融时报报道，负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明 1 月 27 日接受采访称，采用纳米压印技术的佳能光刻设备 FPA-1200NZ2C 目标今年或明年出货。佳能 2023 年10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社
IT之家 1 月 28 日消息，据英国金融时报报道，负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明 1 月 27 日接受采访称，采用纳米压印技术的佳能光刻设备 FPA-1200NZ2C 目标今年或明年出货。佳能 2023 年10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社
IT之家 12 月 27 日消息，佳能今年 10 月宣布 FPA-1200NZ2C，这是一款纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫近日表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。佳能半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图
