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英伟达黄仁勋:GAA 工艺或仅带来 20% 性能提升,架构与软件创新更为关键

据 EE Times 报道,英伟达(Nvidia)首席执行官黄仁勋(Jensen Huang)在近期 GTC 大会的一场问答环节中表示,依赖全环绕栅极(Gate-All-Around, GAA)晶体管的下一代制程技术可能会为公司处理器带来大约 20% 的性能提升。然而他同时强调,对于英伟达的 GPU 而言,最主要的性能飞跃源于公司自身的架构创新以及软件层面的突破。

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